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Messprinzip |
Dynamische Fokussierung über Astigmatismus.
Das Astigmatismusverfahren weist keine Vorzugsrichtung auf, so daß
technische Oberflächen in beliebiger Richtung gemessen werden können.
Die Meßwerte sind unabhängig von der Meßrichtung. |
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Ausführung |
Tischgehäuse oder im 3 HE 19"-Einschub. |
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Mikroskop |
Integriertes Auflicht-Hellfeldmikroskop mit einem
Bildfeld von 800 x 600 µm. Das Mikroskop erlaubt eine einfache und
präzise Positionierung des Sensors. Das Bild wird mit hoher Bildqualität
durch den Tubus aufgenommen und zeigt den Meßpunkt auch während
der Messung. |
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Meßbereich |
1,5 mm |
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Auflösung |
10 nm, entspricht 17,2 bit. Das Meßsignal
wird von einem Glasmaßstab höchster Qualität abgeleitet.
Die physikalische Maßverkörperung gewährleistet Langzeitstabilität
ohne periodische Kalibrierung. |
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Linearität |
besser 0,2 µm über den gesamten Bereich |
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Reproduzierbarkeit |
Standardabweichung <= 10 nm bei 50 Messungen
einer Stufe von 150 µm |
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Arbeitsabstand |
2 mm (AF16-2) oder 5,8 mm (AF16-6) |
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Strahlquelle |
Halbleiterlaser mit einer Wellenlänge von
780 nm. |
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Laserklasse |
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nach DIN EN 31252 |
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Meßfleckgröße |
1,9 µm beugungsbegrenzt |
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Oberflächenneigung |
90°+/- 25° bei hochglänzender Oberfläche,
mehr bei diffuser Reflektion |
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Abtastrate |
16 Hz - 10 kHz, unabhängig von der Oberflächenbeschaffenheit |
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Nachführrate |
60 mm/s, ergibt bei einem Profil von 20 µm
pp eine Kleinsignalbandbreite von 950 Hz |
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Datenübertragung |
RS232
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1400/s Profilwerte + Status
960/s Profilwerte + Reflexionswerte + Status |
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Datenpuffer |
64 kB |
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Gewicht |
ca. 5 kg Sensorkopf
ca. 4 kg Auswerteeinheit |
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Technische Änderungen vorbehalten.
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