Anwendungsbeispiele:
Fotodioden
auf Kamerachip
Mikrolinsen-
Array
Chromstruktur auf
Walzenoberfläche
Zahnoberfläche
 
Das Konfokalmikroskop KFM ist der ideale Sensor zur sekundenschnellen berührungslosen Messung mikroskopischer Oberflächen. Kleinste Details werden bis zum physikalischen Limit zuverlässig erfasst. Eine breite Palette an ausgesuchten Objektiven höchster Qualität rundet das Einsatzspektrum ab. Das flächenhafte Messverfahren erfasst gleichzeitig die Oberflächentopografie und ein omnifokales Helligkeitsbild.

Arbeitsprinzip:

Flächenhafte konfokale Detektion mittels rotierender Nipkowscheibe. Bedingt durch die tiefendiskriminierende Wirkung des konfokalen Strahlengangs gelangen nur Bildteile in unmittelbarer Umgebung des Fokus zur Abbildung und Auswertung (Details). Ein spezieller authentic peak detection Algorithmus bestimmt aus den Bilddaten sowohl die Profilhöhe als auch ein omnifokales Oberflächenbild.

Besondere Vorzüge:

  • Mikroskopbasierte Technologie zur Erfassung kleinster Details bis ans physikalische Limit
  • Flächenhaftes Messverfahren für sekundenschnelle Ergebnisse
  • Wartungsfrei und langlebig durch LED-Technologie
  • Dynamikumfang deutlich größer wie bei interferometrischen Verfahren
  • Umfangreiches Sortiment an ausgesuchten Objektiven höchster Qualität verfügbar
  • Geringe Leistungsaufnahme
  • In OEM-Aufbauten integrierbar

Applikationen:

  • Messung von Topografie, Höhe, Form, Position.
  • Bestimmung abgeleiteter Größen wie Rauheit, Fläche oder Volumen.
  • Visualisierung durch parallele Erfassung des omnifokalen Oberflächenbildes.

Einsatzbereiche:

  • Halbleiterbereich, Elektronik, Elektrotechnik
  • Optik, Materialforschung, Maschinenbau
  • Medizintechnik
  • Messungen an hochempfindlichen, weichen oder flüssigen Medien
  • Messungen an optisch anspruchsvollen Messobjekten

empfohlene Meßständer:

 
>> Technische Daten des Konfokalmikroskops

>> Datenblatt als PDF Download (275kB)