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Anwendungsbeispiele:
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Halbleiterchip
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Mikromechanische
Struktur
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Keramischer
Druckprozess
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Laserablation
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Das Konfokalmikroskop KFM xpert eignet sich
aufgrund der einzigartigen Kombination von Konfokalmikroskop und Weißlichtinterferometer sowohl für mikroskopische,
stark strukturierte Proben als auch großflächige, superglatte Oberflächen. Der Objektivrevolver bietet
bereits in der Grundausstattung Aufnahme für eine anwenderspezifische Kombination von sechs Objektiven.
Für jede Topografie und Meßaufgabe steht das geeignete Meßverfahren zur Verfügung.
Die konfokale Messung erfasst zuverlässig kleinste Details bis zum physikalischen Limit auch auf stark geneigten und
unkooperativen Oberflächen. Eine breite Palette ausgesuchter Objektiven höchster Qualität mit
Vergrößerungen zwischen 10x und 150x steht für diese Aufgabe zur Verfügung.
Der Weißlichtmodus eignet sich
insbesondere für superglatte bis moderat strukturierte Oberflächen bei großem Meßfeld. Auf geeigneten Oberflächen
liegt die axiale Auflösung unabhängig von der Objektivvergrößerung im sub-nm Bereich.
Sechs Objektive mit Vergrößerungen zwischen 2.5x und 100x, mit Bildfeldern zwischen 7.1x5.3mm und 178x134µm,
sind verfügbar.
In beiden Meßmodi erfasst das flächenhafte Messverfahren
gleichzeitig die Oberflächentopografie und ein omnifokales Helligkeits- bzw Interferenzkontrastbild.
Konfokaler Meßmodus:
Flächenhafte konfokale Detektion mittels rotierender Nipkowscheibe. Bedingt durch die
tiefendiskriminierende Wirkung des konfokalen Strahlengangs gelangen nur Bildteile in
unmittelbarer Umgebung des Fokus zur Abbildung und Auswertung (Details).
Ein spezieller authentic peak detection Algorithmus bestimmt aus den Bilddaten sowohl
die Profilhöhe als auch ein omnifokales Oberflächenbild.
Interferometrischer Meßmodus:
Durch Überlagerung des von der Probe reflektierten Lichts mit einer im Objektiv erzeugten Referenzwelle
ergeben sich in einem kleinen Bereich um die optimale Fokuslage charakteristische Intensitätsvariationen im Kamerabild.
Spezielle Algorithmen (Details) bestimmen daraus Profilhöhe und Interferenzkontrast.
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- Mikroskopbasierte Technologie zur Erfassung kleinster Details bis ans physikalische Limit.
- Flächenhaftes Messverfahren für sekundenschnelle Ergebnisse.
- Wartungsfrei und langlebig durch LED-Technologie.
- Geeingnet für mikroskopische bis großflächige Messungen.
- Höchste laterale und axiale Auflösung.
- Umfangreiches Sortiment an ausgesuchten Objektiven höchster Qualität verfügbar.
- Revolver für schnellen Objektivwechsel.
- Geringe Leistungsaufnahme.
- In OEM-Aufbauten integrierbar
- Messung von Topografie, Höhe, Form, Position.
- Bestimmung abgeleiteter Größen wie Rauheit, Fläche, Ebenheit oder Volumen.
- Visualisierung durch parallele Erfassung des Oberflächenbildes.
- Halbleiterbereich, Elektronik, Elektrotechnik
- Optik, Materialforschung, Maschinenbau
- Medizintechnik
- Messungen an hochempfindlichen, weichen oder flüssigen Medien
- Messungen an optisch anspruchsvollen Messobjekten
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